电子半导体

在光刻工艺中，传特板式换热器可用于冷却光刻机的光源和光学系统，保证光刻精度

在刻蚀工艺中，传特板式换热器可用于冷却刻蚀反应室，控制反应温度，提高刻蚀质量。

晶圆是用于制造集成电路等微电子器件的硅锭薄片。经过蚀刻、离子注入、材料沉积和光刻图案等多道微制造工艺后，硅锭通过高温线锯切割成晶圆。在此过程中，切割需使用冷却液或切割浆液以控制温度，而这些液体需通过板式换热器进行有效冷却。

在掺杂工艺中，板式换热器可用于冷却掺杂源和晶圆，防止过热导致的掺杂不均匀。传特垫片式板式换热器为此类冷却应用提供了紧凑、高效且可靠的解决方案。

传特板式换热器可以实现对冷却介质温度的精确控制，满足对温度控制与洁净度有苛刻要求。

在半导体和微电子制造过程中，工业蚀刻通过化学浴刻蚀出所需的结构形状。蚀刻化学槽对温度和浓度控制要求极高，而板式换热器在酸液制备和槽液温控中发挥着关键作用。
传特板式换热器可采用多种高合金或镍基合金材质，能够可靠应对各种腐蚀性化学品和酸性工况。

传特板式换热器可以实现对冷却介质温度的精确控制，满足对温度控制与洁净度有苛刻要求。